Ключевое отличие УФ-лазера от волоконного или CO2 заключается в длине волны. Ультрафиолетовый луч обладает высокой фотоэнергией, но малой тепловой нагрузкой. Это позволяет не испарять, а разрушать молекулярные связи на микроуровне, что приводит к ряду преимуществ:
- Холодная гравировка: Отсутствие термического воздействия исключает появление окалины, подгаров и тепловой деформации материала.
- Высочайшее разрешение: Минимальная ширина луча позволяет создавать микроскопические надписи и графику с исключительной детализацией.
- Широкая совместимость: Технология эффективно работает с материалами, которые плохо поддаются обработке инфракрасными лазерами.